Método para recubrir sustratos metálicos con una película de carbono amorfo duro

Abstract

La presente consiste en un método para recubrir sustratos metálicos con una película de carbono amorfo duro, de más de 2 (mu)m de espesor, mediante un haz de iones de energía variable, generando previamente una interfaz de silicio. El método consta de las siguientes etapas: a) limpieza de la superficie del objeto a recubrir; b) colocación del objeto a recubrir en una cámara de alto vacío; c) limpieza superficial mediante un haz de iones de argón; d) depósito de una capa de silicio sobre la superficie a recubrir (metal), mediante un haz de iones provenientes de la ionización de silano (sih4). Dicha capa será la interfaz entre el metal y la de carbono que se hará posteriormente; e) producción de la película de carbono amorfo duro, mediante un haz de iones provenientes de la ionización de metano (ch4). Una aplicación de la presente es la protección de superficies expuestas al desgaste, a la abrasión o a ataques químicos, en general; otra aplicación de la presente es el endurecimiento superficial de elementos de corte, como hojas de afeitar, bisturís, cuchillas de máquinas de cortar el pelo, etc.; otra aplicación de la presente es como recubrimiento biocompatible de prótesis de aleaciones de titanio con capacidad de oseointegración, como por ejemplo, prótesis de cadera, implantes dentales, etc.