Control de depósitos evaporados

Abstract

Se describe un sistema simple para efectuar depósitos metálicos de espesor controlado por evaporación en vacío, sobre sustratos transparentes. El procedimiento permite obtener una reproducibilidad en el espesor, medido por el porcentaje de absorbancia luminosa de la capa depositada, del cinco por ciento.A simple system is described for the deposition of metallic films of controlled thickness on transparent substrates by means of a vacuum evaporation. This procedure allows for a five percent thickness reproducibility, as measured by the percentage of luminous absorbance in the deposited layer.